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Chinese Optics Letters, Volume. 21, Issue 7, 071204(2023)

Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology

Wenhe Yang1,2, Nan Lin1,2、*, Xin Wei1,2, Yunyi Chen1,2, Sikun Li2, Yuxin Leng2, and Jianda Shao2、**
Author Affiliations
  • 1School of Microelectronics, Shanghai University, Shanghai 200072, China
  • 2Department of Precision Optics Engineering, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China
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    Wenhe Yang, Nan Lin, Xin Wei, Yunyi Chen, Sikun Li, Yuxin Leng, Jianda Shao, "Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology," Chin. Opt. Lett. 21, 071204 (2023)

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    Paper Information

    Category: Instrumentation, Measurement, and Optical Sensing

    Received: Feb. 27, 2023

    Accepted: Apr. 18, 2023

    Published Online: Jul. 24, 2023

    The Author Email: Nan Lin (nanlin@siom.ac.cn), Jianda Shao (jdshao@siom.ac.cn)

    DOI:10.3788/COL202321.071204

    Topics

    laser devices and laser physics
    Lasers and Laser Optics
    Laser physics
    laser manufacturing
    Instrumentation, Measurement and Metrology