[1] G. E. Moore. , ().(1965). https://www.computerhistory.org/collections/catalog/102

[2] J. W. S. Rayleigh. The Theory of Sound(1945).

[3] N. Zong, W. M. Hu, Z. M. Wang, X. J. Wang, S. J. Zhang, Y. Bo, Q. J. Peng, Z. Y. Xu. Chin. Opt., 13, 28(2020).

[4] T. Tomie, J. Micro-Nanolith. MEM, 11, 021109(2012).

[5] Y. Teramoto, B. Santos, G. Mertens, R. Kops, M. Kops, A. van Wezyk, H. Yabuta, A. Nagano, T. Shirai, N. Ashizawa, K. Nakamura, K. Kasama. Proc. SPIE, 9422, 94220F(2015).

[6] N. Lin, W. H. Yang, Y. Y. Chen, X. Wei, C. Wang, J. L. Zhao, Y. J. Peng, Y. X. Leng. Laser Optoelectron., 59, 0922002(2022).

[7] I. Fomenkov, A. Schafgans, D. Brandt. Synchrotron Radiat. News, 32(2019).

[8] M. Kriese, Y. Platonova, B. Ehlersa, L. Jianga, J. Rodrigueza, U. Muellerb, J. Danielb, S. Khatrib, A. Magruderb, S. Granthamc, C. Tarrioc, T. Lucatortoc. Proc. SPIE, 9048, 90483C(2014).

[9] B. Rollinger. , “Droplet target for laser-produced plasma light sources,” PhD. Thesis (ETH Zurich, ).(2010).

[10] V. Bakshi. EUV Lithography(2018).

[11] D. K. Yang, D. Wang, Q. Huang, Y. Song, J. Wu, W. Li, Z.-S. Wang, X. Tang, H. Xu, S. Liu, C. Gui. Chip, 1, 100019(2022).

[12] V. Bakshi. EUV Sources for Lithography(2006).

[13] C. Wagner, N. Harned. Nat. Photonics, 4, 24(2010).

[14] F. Liu, F. van de, W. M. Bayraktar, F. Bijkerk, D. Smeets, S. Huang, Y. Ni, A. Yakunin, P. Havermans, R. Oesterholt, F. Torretti, J. Scheers, O. Versolato2019 EUVL Workshop. , , , , , , , , , , , and , in ().(2019).

[15] Y. Platonov, M Kriese, R. Crucet, Y. Li, V. Martynov, L. Jiang, J. Rodriguez, U. Mueller, J. Daniel, S. Khatri, A. Magruder, S. Grantham, C. Tarrio, T. B. Lucatorto2013 EUVL Sources Workshop. , , , , , , , , , , , , , and , in ().(2013).

[16] M. van de Kerkhof, F. Liu, M. Meeuwissen, X. Zhang, R. de Kruif, N. Davydova, G. Schiffelers, F. Waelisch, E. van Setten, W. Varenkamp, K. Ricken, L. de Winter, J. McNamara, M. Bayraktar, N. M. Felix, A. Lio. Proc. SPIE, 11323, 1132321(2020).

[17] M. van de Kerkhof, F. Liu, M. Meeuwissen, X. Zhang, M. Bayraktar, R. de Kruif, N. Davydova, J. Micro-Nanolith. MEM, 19, 033801(2020).

[18] M. Bayraktar, F. A. van Goor, K. J. Boller, F. Bijkerk. Opt. Express, 22, 8633(2014).

[19] Y. Suzuki, K. Totsu, M. Moriyama, M. Esashi, S. Tanaka. Sens. Actual A: Phys., 231, 59(2015).

[20] A. J. R. van den Boogaard, E. Louis, F. A. van Goor, F. Bijkerk. Proc. SPIE, 7271, 72713B(2009).

[21] C. M. Park, I. Kim, S. H. Kim, D. W. Kim, M. S. Hwang, S. N. Kang, C. H. Park, H. W. Kim, J. H. Yeo, S. S. Kim. Proc. SPIE, 9048, 90480S(2014).

[22] W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, V. Y. Banine. Proc. SPIE, 7271, 72712Y(2009).

[23] S. A. George, P. P. Naulleau, S. Rekawa, E. Gullikson, C. D. Kemp. Proc. SPIE, 7271, 72710X(2009).

[24] G. F. Lorusso, N. Davydova, M. Eurlings, C. Kaya, Y. Peng, K. Feenstra, T. H. Fedynyshyn, O. Natt, P. Huber, C. Zaczek, S. Young, P. Graeupner, E. Hendrickx. Proc. SPIE, 7969, 79692O(2011).

[25] O. Romanets, K. Ricken, M. Kupers, F. Wahlisch, C. Piliego, P. Proman, D. de Graaf, U. F. Behringer, J. Finders. Proc. SPIE, 11177, 111770Z(2019).

[26] G. Salmaso, R. Maas. Proc. SPIE, 11854, 118540R(2021).

[27] M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, S. Y. Zuev. Proc. SPIE, 7025, 702502(2007).

[28] N. I. Chkhalo, A. A. Orlikovsky, M. N. Drozdov, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin. Proc. SPIE, 7521, 752105(2009).

[29] S. S. Andreev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, K. A. Prokhorov, N. N. Salashchenko, L. A. Suslov, S. Y. Zuev. Poverhnost, N2, 6(2003).

[30] N. I. Chkhalo, M. N. Drozdov, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Salashchenko, N. N. Tsybin, L. A. Sjmaenok, V. E. Banine, A. M. Yakunin, J. Micro-Nanolith. MEM, 11, 021115(2012).

[31] I. FomenkovInternational Workshop on EUV Lithography. , in ().(2017).

[32] M. van de Kerkhof, H. Jasper, L. Levasier, R. Peeters, R. van Es, J.-W. Bosker, A. Zdravkov, E. Lenderink, F. Evangelista, P. Broman, B. Bilski, T. Last. Proc. SPIE, 10143, 101430D(2017).

[33] R. Es, M. van de Kerkhof, A. Minnaert, G. Fisser, J. Klerk, J. Smits, R. Moors, E. Verhoeven, L. Levasier, R. Peeters, M. Pieters, H. Meiling. Proc. SPIE, 10583, 105830H(2018).

[34] H. Kierey, K. Heidemann, B. Kleemann, R. Winters, W. E. W. Singer, F. Melzer, R. Wevers, M. Antoni. Advances in Mirror Technology for X-Ray, EUV Lithography, Laser, and Other Applications, 70(2004).

[35] L. C. Zhang. OME Inform., 28(2011).

[36] T. Feigl, M. Perske, H. Pauer, T. Fiedler, U. Zeitner, R. Leitel, H.-C. Eckstein, P. Schleicher, S. Schröder, M. Trost, S. Risse, R. Steinkopf, F. Scholze, C. Laubis. Proc. SPIE, 9422, 94220E(2015).

[37] H. Nakarai, T. Abe, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori, T. Kodama, Y. Shiraishi, T. Yanagida, G. Soumagne, T. Yamada, T. Saitou4th Fraunhofer Symposium on Digital Photonics Made in Germany. , , , , , , , , , , and , in ().(2019).

[38] M. Moriya, O. Wakabayashi, G. Soumagne. , , and , U.S. patent 8,592,787,B2 (November 26, ).(2013).

[39] A. J. R. van den Boogaard, F. A. van Goor, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Lett., 37, 160(2012).

[40] C. Kittel, P. McEuen. Introduction to Solid State Physics(2018).

[41] A. Haase. Multimethod Metrology of Multilayer Mirrors Using EUV and X-Ray Radiation(2017).

[42] S. Migura. , ().(2019). https://www.euvlitho.com/2019/P24.pdf

[43] K. L. Guen, J. M. André, M. Wu, V. Ilakovac, F. Delmotte, S. de Rossi, F. Bridou, E. Meltchakov, A. Giglia, S. Nannarone. J. Nanosci. Nanotechno., 19, 593(2019).

[44] H. G. J. Moseley. Edinburgh Dublin Philosoph. Mag. J. Sci., 26, 1024(1913).

[45] V. V. Medvedev, A. J. van den Boogaard, R. van der Meer, A. E. Yakshin, E. Louis, V. M. Krivtsun, F. Bijkerk. Opt. Express, 21, 16964(2013).

[46] D. M. Miles, J. A. McCoy, R. L. McEntaffer, C. M. Eichfeld, G. Lavallee, M. Labella, W. Drawl, B. Liu, C. T. DeRoo, T. Steiner. Astrophys. J., 869, 95(2018).

[47] H. Mizoguchi, H. Nakarai, T. Abe, K. M. Nowak, Y. Kawasuji, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori, T. Kodama, Y. Shiraishi, T. Yanagida, G. Soumagne, T. Yamada, T. Yamazaki, S. Okazaki, T. Saitou. Adv. Opt. Technol., 4, 297(2015).

[48] Q. Huang, M. de Boer, J. Barreaux, D. M. Paardekooper, T. van den Boogaard, R. van de Kruijs, E. Zoethout, E. Louis, F. Bijkerk. Proc. SPIE, 9048, 90480G(2014).

[49] M. Trost, S. Schroder, A. Duparre, S. Risse, T. Feigl, U. D. Zeitner, A. Tunnermann. Opt. Express, 21, 27852(2013).

[50] E. Spiller. AIP Conf. Proc., 75, 124(1981).

[51] E. Spiller. Appl. Opt., 15, 2333(1976).

[52] P. P. Naulleau, J. A. Liddle, F. Salmassi, E. H. Anderson, E. M. Gullikson. Proc. SPIE, 5347, 9(2003).

[53] Q. Huang, V. Medvedev, R. van de Kruijs, A. Yakshin, E. Louis, F. Bijkerk. Appl. Phys. Rev., 4, 011104(2017).

[54] P. P. Naulleau, W. C. Sweattb, D. A. Tichenorc. Opt. Commun., 214, 31(2002).

[55] P. P. Naulleau, J. A. Liddle, E. H. Anderson, E. M. Gullikson, P. Mirkarimi, F. Salmassi, E. Spiller. Opt. Commun., 229, 109(2004).

[56] P. P. Naulleau, E. H. Anderson, E. M. Gullikson, J. Bokor. Opt. Commun., 200, 27(2001).

[57] J. A. Liddle, F. Salmassi, P. P. Naulleau, E. M. Gullikson, J. Vac. Sci. Technol. B, 21, 2980(2003).

[58] D. L. Voronov, E. H. Anderson, E. M. Gullikson, F. Salmassi, T. Warwick, V. V. Yashchuk, H. A. Padmore. Opt. Lett., 37, 1628(2012).

[59] D. L. Voronov, E. M. Gullikson, F. Salmassi, T. Warwick, H. A. Padmore. Opt. Lett., 39, 3157(2014).

[60] Q. Huang, M. de Boer, J. Barreaux, R. van der Meer, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Express, 22, 19365(2014).

[61] Q. Huang, D. M. Paardekooper, E. Zoethout, V. V. Medvedev, R. van de Kruijs, J. Bosgra, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Lett., 39, 1185(2014).

[62] T. Feigl, M. Perske, H. Pauer, T. Fiedler, U. Zeitner, R. Leitel, H.-C. Eckstein, P. Schleicher, S. Schröder, M. Trost, S. Risse, R. Steinkopf, C. Laubis, F. Scholze2016 EUVL Workshop. , , , , , , , , , , , , , and , in ().(2016).

[63] H. Mizoguchi2014 International Workshop on EUV Lithography. , in ().(2014).

[64] H. Mizoguchi, K. M. Nowak, H. Nakarai, T. Abe, T. Ohta, Y. Kawasuji, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori, T. Kodama, Y. Shiraishi, T. Yanagida, T. Yamada, T. Yamazaki, S. Okazaki, T. Saitou. J. Laser Micro. Nanoeng., 11, 276(2016).

[65] H. Mizoguchi, H. Nakarai, T. Abe, H. Tanak, Y. Watanabe, T. Hori, Y. Shiraishi, T. Yanagida, G. Sumangne, T. Yamada, T. Saitou, N. M. Felix, A. Lio. Proc. SPIE, 11609, 1160919(2021).

[66] H. Nakarai, T. Abe, K. M. Nowak, Y. Kawasuji, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori, T. Kodama, Y. Shiraishi, T. Yanagida, G. Soumagne, T. Yamada, T. Yamazaki, T. SaitouEUV Source Workshop. , , , , , , , , , , , , , and , in ().(2017).

[67] K. C. Johnson. , ().(2018). https://vixra.org/abs/1512.0295

[68] W. A. Soer, P. Gawlitza, M. M. J. W. van Herpen, M. J. J. Jak, S. Braun, P. Muys, V. Y. Banine. Opt. Lett., 34, 3680(2009).

[69] E. Spiller, S. L. Baker, P. B. Mirkarimi, V. Sperry, E. M. Gullikson, D. G. Stearns. Appl. Opt., 42(2003).

[70] S. M. Zhang. , “The research and characterization of cleaning methods and smoothing layer for the substrate of extreme ultraviolet multilayer,” PhD. Thesis (Tongji Unversity, ).(2007).

[71] H. J. Stock, F. Hamelmann, U. Kleineberg, D. Menke, B. Schmiedeskamp, K. Osterried, K. F. Heidemann, U. Heinzmann. Appl. Opt., 7, 1650(1997).

[72] F. Salmassi, P. P. Naulleau, E. M. Gullikson. Appl. Opt., 45, 2404(2006).

[73] F. Salmassi, C. N. Anderson, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau. Proc. SPIE, 6883, 68830F(2008).

[74] M. P. Ulmer, J. H. Dugard, D. Quispe, D. B. Buchholz, S. Stagon, Y.-W. Chung, J. Cao, K. Kritikos, N. Guerra, M. T. Stahl, R. Shiri, R. Vaidyanathan, J.-W. A. den Herder, K. Nakazawa, S. Nikzad. Proc. SPIE, 12181, 1218131(2022).

[75] E. Louis, A. E. Yakshin, T. Tsarfati, F. Bijkerk. Prog. Surf. Sci., 86, 255(2011).

[76] J. C. Chen. , “Comparison of ultra-precision machined surface roughness measurement methods and power spectral density characterization,” PhD. Thesis (Harbin Institute of Technology, ).(2009).

[77] P. Li. , “Surface topography evaluation and error compensation based on white light interferometry,” Master’s Thesis (Dalian University of Technology, ).(2021).

[78] L. Yang, X. L. Zheng, B. Chen. Opt. Precision Eng., 19, 2565(2011).

[79] J. Wang, L. P. Wang, C. S. Jin, Y. Xie. , , , and , China patent 104317168B (March 3, ).(2016).

[80] I. Schuster, W. Merkel, G. Metalidis, H. Kierey. , , , and , US patent 10,503,075 B2 (December 10, ).(2019).

[81] J. Eastman, P. Bausmeister. Opt. Commun., 12, 418(1974).

[82] T. Feigl, M. Perske, H. Pauer, T. Fiedler2014 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography. , , , and , in ().(2014).

[83] L. Mazule, S. Liukaityte, R. C. Eckardt, A. Melninkaitis, O. Balachninaite, V. Sirutkaitis. J. Phys. D: Appl. Phys., 44, 505103(2011).

[84] J. Böhm, M. Jech, M. Vellekoop. Tribol. Lett., 37, 209(2010).

[85] C. Wei. , “Surface quality detection technology of optical components based on regional scattering,” Master’s Thesis (Xi’an Technological University, ).(2022).

[86] E. Hilpert, J. Hartung, H. von Lukowicz, T. Herffurth, N. Heidler. Opt. Eng., 58, 092613(2019).

[87] A. F. Herrero, H. Mentzel, V. Soltwisch, S. Jaroslawzew, C. Laubis, F. Scholze. Proc. SPIE, 10585, 105850P(2014).

[88] S. Sun, C. Jin, B. Yu, T. Guo, S. Yao, W. Deng, C. Li. Opt. Eng., 58, 107102(2019).

[89] F. Scholze, C. Laubis, U. Dersch, J. Pomplun, S. Burgerc, F. Schmidt. Proc. SPIE, 6617, 66171A(2007).

[90] A. E. Yakshin, I. V. Kozhevnikov, E. Zoethout, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Express, 18, 6957(2010).

[91] C. Laubis, A. Barboutis, M. Biel, C. Buchholz, B. Dubrau, A. Fischer, A. Hesse, C. Stadelhoff, V. Soltwisch, F. Scholze. Proc. SPIE, 8679, 867921(2022).

[92] C. Laubis, A. Barboutis, C. Buchholz, A. Fischer, A. Haase, F. Knorr, H. Mentzel, J. Puls, A. Schönstedt, M. Sintschuk, V. Soltwisch, C. Stadelhoff, F. Scholze. Proc. SPIE, 9776, 977627(2016).

[93] S. Grantham, C. Tarrio, T. Lucatorto, M. Kriese, Y. Platonov, J. Rodriguez, L. Jiang. Proc. SPIE, 9048, 90481I(2014).

[94] S. Schröder, T. Herffurth, M. Trost, A. Duparré. Appl. Opt., 49, 1503(2010).

[95] S. Schröder, T. Herffurth, H. Blaschke, A. Duparré. Appl. Opt., 50, C164(2011).

[96] K. C. Johnson, J. Vac. Sci. Technol. B, 34, 041608(2016).

[97] A. Hassanein, V. Sizyuk, T. Sizyuk, K. Johnson. Proc. SPIE, 10583, 1058319(2018).

[98] H. J. Wang, C. Wei, A. L. Tian, B. C. Liu, X. L. Zhu. Proc. SPIE, 12073, 120730N(2021).