[1] [1] Tabak, M.; Hammer, J.; Glinsky, M.E.; Kruer, W.L.; Wilks, S.C.; Woodworth, J.; Campbell, E.M.; Perry, M.D.; Mason, R.J. Plasma Phys. 1994, 1, 1626–1634.

[2] [2] Kodama, R.; Mima, K.; Tanaka, K.A.; Kitagawa, Y.; Fujita, H.; Takahashi, K.; Sunahara, A.; Fujita, K.; Habara, H.; Jitsuno, T.; Sentoku, Y.; Matsushita, T.; Miyakoshi, T.; Miyanaga, N.; Norimatsu, T.; Setoguchi, H.; Sonomoto, T.; Tanpo, M.; Toyama, Y.; Yamanaka, T. Plasma Phys. 2001, 8, 2268–2274.

[3] [3] Tanaka, K.A.; Kodama, R.; Mima, K.; Kitagawa, Y.; Fujita, H.; Miyanaga, N.; Nagai, K.; Norimatsu, T.; Sato, T.; Sentoku, Y.; Shigemori, K.; Sunahara, A.; Shozaki, T.; Tanpo, M.; Tohyama, S.; Yabuuchi, T.; Zheng, J.; Yamanaka, T. Plasma Phys. 2003, 10, 1925–1930.

[4] [4] Kumar, M.; Das, B.N. Electron. Lett. 1978, 14, 216–217.

[5] [5] Skeldon, M.D.; Okishev, A.V.; Keck, R.L.; Seka, W.; Letzring, S. Proc. SPIE 1999, 3492, 131–135.

[6] [6] Harney, R.C.; Schipper, J.F. Passive and Active Pulse Stacking Scheme for Pulse Shaping. US Patent 4059759, November 22, 1977.

[7] [7] Kanabe, T.; Nakatsuka, M.; Kato, Y.; Yamanaka, C. Opt. Commun. 1986, 58, 206–210.

[8] [8] Zheng, W.G.; Zhang, X.M.; Wei, X.F.; Jing, F.; Sui, Z.; Zheng, K.X.; Yuan, X.D.; Jiang, X.D.; Su, J.Q.; Zhou, H.; Li, M.Z.; Wang, J.J.; Hu, D.X.; He, S.B.; Xiang, Y.; Peng, Z.T.; Feng, B.; Guo, L.F.; Li, X.Q.; Zhu, Q.H.; Yu, H.W.; You, Y.; Fan, D.Y.; Zhang, W.Y. J. Phys. Conf. Ser. 2008, 112, 032009.

[9] [9] Zheng, H.; Wang, A.; Xu, L.; Gao, K.; Ming, H. Chin. Opt. Lett. 2010, 8, 248–252.

[10] [10] Wang, Y.; Wang, J.; Jiang, Y.; Bao, Y.; Li, X.; Lin, Z. Chin. Opt. Lett. 2008, 6, 841–844.